Pengaruh Tegangan dan Waktu Deposisi Terhadap Pelapisan TiO2 dengan Metode Elektroforesis

  • S. Rahayu Pusat Teknologi Material, Badan Pengkajian dan Penerapan Teknologi (BPPT)
  • R. Nuryadi Pusat Teknologi Material, Badan Pengkajian dan Penerapan Teknologi (BPPT)
  • L. Aprilia Pusat Teknologi Material, Badan Pengkajian dan Penerapan Teknologi (BPPT)
  • H. Purwati Pusat Teknologi Material, Badan Pengkajian dan Penerapan Teknologi (BPPT)
Keywords: Lapisan TiO2, metode elektroforesis, tegangan elektroforesis, waktu deposisi, ketebalan.

Abstract

Kegunaan lapisan tipis TiO2 dewasa ini sangat luas, diantaranya adalah sebagai bahasa dye-sensitized solar cell dantabir surya. Karena aplikasinya yang begitu banyak maka tidak heran jika penelitian mengenai TiO2 dan metodepenumbuhannya banyak dikembangkan. Salah satu metode pelapisan yang tergolong relatif murah dan sederhanaadalah metode elektroforesis. Tujuan dari penelitian ini adalah untuk mengetahui pengaruh tegangan dan waktudeposisi terhadap tebal lapisan TiO2 pada substrat dengan metode elektroforesis. Tegangan elektroforesis yangdipergunakan bervariasi yaitu 30 V, 50 V, dan 70 V, sedangkan waktu deposisi yang dipergunakan pada penelitian inibervariasi yaitu 3 menit, 5 menit, 7 menit, 9 menit dan 11 menit. Sampel yang mengalami berbagai macam parametertersebut dibandingkan ketebalannya satu sama lain. Hasil penelitian menunjukan bahwa, pada menit-menit awalwaktu deposisi, semakin tinggi tegangan elektroforesis maka kecepatan deposisi semakin tinggi. Namun semakin lamawaktu deposisi, kecepatan deposisi turun bahkan cenderung konstan

Downloads

Download data is not yet available.
Published
2012-07-11