Visible light maskless photolithography Pada tembaga menggunakan cairan pengikis Ferri chloride

Abstract

Keberhasilan modifikasi photolithography dalam proses visible light maskless photolithography dengan DLP Projector digabung dengan proses biomachining membuat bertambahnya metode mikrofabrikasi dengan sistem lithograpy. Dengan maksud membuat modifikasi dari visible light maskless photolithography maka dilakukan penggantian proses pengikisan material menggunakan cairan ferri chloride menggantikan proses biomachining. Proses yang dilakukan dimulai dari proses persiapan, bahan uji dari tembaga dipotong dan dibersihkan supaya mendapatkan hasil yang maksimal, kemudian diberi cairan negative photoresist selanjutnya proses penyinaran (exposure) dengan visible light (sinar tampak) berasal dari DLP projector yang terhubung ke laptop sebagai pembentuk model. Proses exposure mengkombinasi warna hitam dan biru terang. Karena yang digunakan cairan negative photoresist maka yang bagian hitam akan hilang sedangkan bagian yang berwarna biru terang akan mengeras dan melindungi tembaga, setelah exposure dilakukan pelarutan (removal) untuk menghilangkan cairan resist yang tidak dibutuhkan, selanjutnya bahan dimasukan kedalam cairan Ferri Chloride (FeCl3) yang akan mengikis tembaga yang tidak terlindungi. Hasil proses pengikisan tembaga yang tidak terlindungi resist akan membentuk profil sesuai model yang ada pada laptop. Profil huruf dan alur sirkuit listrik telah berhasil dibuat dengan ukuran garis terkecil 132 μm dan memiliki kekasaran tepi 6,6 μm.